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离子束研磨系统
Leica EM TXP 精研一体机

Leica EM TXP 精研一体机

发布时间:2018-11-25 浏览次数: 徕卡EM TXP 标靶面制备系统具有定点修块抛光功能,是用锯,磨,铣削,抛光样品后,供扫描电镜,透射电镜,和LM技术检测。

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Leica EM TXP 精研一体机

徕卡(ka)EM TXP 标(biao)靶(ba)面制备(bei)系(xi)统具有定点(dian)修块抛(pao)光(guang)功能(neng),是(shi)用锯,磨(mo),铣(xian)削,抛(pao)光(guang)样品后,供扫描电镜(jing),透(tou)射电镜(jing),和LM技术检(jian)测。

带(dai)有(you)一体化体视镜,用(yong)于精确定位(wei)及对(dui)较(jiao)细微(wei)难(nan)以(yi)(yi)观察(cha)的目(mu)标位(wei)置进(jin)行样(yang)品处理时观察(cha);使用(yong)样(yang)品旋转手柄,可以(yi)(yi)改变样(yang)品观察(cha)角(jiao)度(du),0°-60°可调,或者垂直于样(yang)品前(qian)表面(mian)90°观察(cha),可利用(yong)目(mu)镜刻度(du)标尺测量距(ju)离。


一体化自动程序控制

一(yi)体(ti)化自(zi)动(dong)程序控制,包括自(zi)动(dong)左右制动(dong)机制,前进反(fan)馈力控制,倒计数功能等,为使(shi)用者节约大量时间。


表面光洁度和标(biao)靶检测(ce)

表面处理与目标检(jian)测,都(dou)通过一(yi)体(ti)化体(ti)视镜来(lai)(lai)完成,用户不需要(yao)专(zhuan)程(cheng)将样品拿(na)出来(lai)(lai)再进行表面观察检(jian)测,这可大大提高(gao)使用者的(de)工作效率。


适(shi)配工具多样性

可(ke)(ke)适配(pei)多种多样工(gong)具,从而使(shi)样品不(bu)经转移就可(ke)(ke)以进行研磨,切(qie)割(ge),钻孔,打磨及抛光。并且(qie)整个处理过程都可(ke)(ke)通(tong)过体视镜进行观察监控(kong),大大节省时间和(he)费用。


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